Tiểu luận Công nghệ chế biến rau quả

Trong công nghiệp, việc sử dụng bức xạ ngày càng được áp dụng rộng rãi, đặc biệt là trong các ngành vật liệu, xử lý môi trường và chế biến thực phẩm...Xử lý bằng bức xạ mang lại nhiều ưu điểm mà các phương pháp khác không thể mang lại, hay mang lại không hoàn toàn. Vì vậy trong những năm gần đây việc nghiên cứu phát triển các quy trình xử lý bằng bức xạ được thế giới quan tâm và khuyến cáo sử dụng. Các nghiên cứu quan trọng đều được Cơ quan năng lượng Nguyên tử quốc tế (IAEA) tài trợ. Khái niệm, phân loại và các thông số quan trọng của bức xạ [1] [4] Bức xạ là năng lượng phát ra từ vật chất có bản chất sóng điện từ. Mỗi bức xạ đặc trưng bằng dải năng lượng tương ứng với bước sóng λ xác định. Mối tương quan giữa năng lượng E và bước sóng λ là: I.1 Phân loại bức xạ theo năng lượng bước sóng Dạng bức xạ Năng lượng điển hình Bước sóng Bức xạ nhiệt Vi sóng (Microwave) Hồng ngoại (Infrarred) Ánh sáng khả kiến Tử ngoại ( Ultra Violet) Tia Roentgen (Tia X) Tia γ < 100 eV 1 – 100 keV 1 – 100 MeV >100 μm 10 – 100 μm 1 – 10 μm 380 – 760 nm 10 -380 nm 0.01 – 1000 nm < 0.001 nm Năng lượng điển hình là năng lượng của một lượng tử búc xạ. Năng lượng của nguồn bức xạ là tổng năng lượng điển hình của tất cả các lượng tử bức xạ phát ra từ nguồn đó. 2 Các đại lượng của quá trình chiếu xạ Năng lượng bức xạ (P): là năng lượng phát ra của nguồn bức xạ Liều chiếu (I) : năng lượng phát ra của nguồn bức xạ trên một đơn vị khối lượng vật chất hấp thụ Năng lượng bức xạ hấp thu E: đặc trưng cho lượng năng lượng mà vật chất hấp thu khi có nguồn chiếu xạ vào Năng lượng bức xạ hấp thu E = Năng lượng nguồn phát E1 – năng lượng còn lại thu được của bức xạ xuyên qua vật thể E2. Liều hấp thụ D là năng lượng bức xạ hấp thu của một đơn vị khối lượng vật thể Đơn vị của liều hấp thu và liều chiếu là Gray ( viết tắt là Gy) 1 Gy = 1 J.kg-1 Đơn vị ngoài hệ SI là rad, 1 Gy = 100 rad. I.3 Các tia bức xạ thường dùng trong chế biến và bảo quản thực phẩm Vi sóng (Microwave): đây là tia có buớc sóng dài, không có khả năng xuyên sâu, thường dùng để gia nhiệt cho thực phẩm Tia X, tia γ: tia có bước sóng cực ngắn, độ xuyên sâu mạnh, thuờng dùng để diệt khuẩn. Tia β : là dòng electron chuyển động trong điện trường rất lớn. Khả năng xuyên sâu trung bình, nhưng tiêu tốn năng lượng lớn, thường dùng để sát khuẩn bề mặt. I.4 Sự tác động của bức xạ lên vật chất mà nó đi qua Tác động chính của bức xạ trên đường đi là gây ion hóa vật chất. Tác động này thường phá hủy cấu trúc hiện có của vật chất. Vì vậy bức xạ thường dùng để tiêu diệt các thành phần không mong muốn trong thực phẩm như vi sinh vật, côn trùng,…Vì chiếu xạ không chọn lọc nên các thành phần khác như dinh dưỡng, màu sắc, mùi vị cũng bị thay đổi theo, đây là điều không mong muốn. Việc cần thiết là phải chọn loại bức xạ với liều lượng phù hợp để có thể đạt được cả hai yêu cầu trên. Trong thực phẩm chất trực tiếp nhận ảnh hưởng của bức xạ là nước. Nước bị ion hoá sinh ra các gốc tự do như H. hay OH., cơ chế như sau [2] Hình I.1 Cơ chế sinh ra các gốc tự do Các gốc tự do H. hay OH. không bền tiếp tục tương tác với các chất khác để quay lại trạng thái bền vững. Quá trình tương tác này diễn ra làm biến đổi các chất khác như: protein, carbohydrate, lipid, enzyme, DNA, RNA… Các phản ứng chính thường là rối loạn cấu trúc không gian, cắt mạch, ôxy hoá… Vì vậy các sản phẩm có độ khô cao như trái cây khô, trái cây ngâm đường ít nhạy với bức xạ, cần được xử lý với liều cao hơn. Thiết bị xử lý thực phẩm bằng bức xạ [1] [3] [6] Một thiết bị chiếu xạ gồm có các thành phần sau Nguồn bức xạ. Nơi chứa nguyên liệu để tiếp nhận nguồn bức xạ Thiết bị điều chỉnh liều lượng bức xạ, bảo vệ, ngăn ngừa việc nhiễm xạ ra ngoài. Thiết bị đo, nhập liệu, tháo liệu. II.1 Nguồn bức xạ Người ta thường phân loại thiết bị theo nguồn bức xạ, có hai loại nguồn thường sử dụng là đồng vị phóng xạ và máy tạo bức xạ. Nguồn đồng vị phóng xạ [1] [3] Nguồn đồng vị phóng xạ là các đồng vị có khả năng phát xạ của các nguyên tố hóa học. Trong tự nhiên tỉ lệ các đồng vị này so với đồng vị bình thường của nguyên tố là rất thấp. Đặc trưng của đồng vị phóng xạ là chu kỳ bán rã. Chu kỳ bán rã là thời gian mà lượng đồng vị phóng xạ giảm đi một nửa. Tương ứng với sự giảm lượng đồng vị phóng xạ là sự giảm của liều lượng bức xạ. Đến khi liều lượng này giảm xuống dưới mức yêu cầu của quy trình công nghệ thì phải loại bỏ, thay mới. Vì vậy đó là một trong các thông số để lựu chọn loại đồng vị phóng xạ phù hợp. Lưu ý rằng sự bức xạ là liên tục theo thời gian, kể cả lúc không vận hành. Vì vậy phương án tận dụng năng luợng bức xạ cần được tính đến. Phương trình sau mô tả sự liên hệ giữa năng lượng bức xạ theo thời gian E = E0e-λtVới E0: năng lượng bức xạ ban đầu. λ: hằng số phụ thuộc chất bức xạ. với T: chu kì bán rã. Có hai nguồn đồng vị phóng xạ chính: Nguồn phóng xạ γ: Đây là các bức xạ điện từ có bước sóng cực ngắn λ < 0.001 nm. Bức xạ này có độ xuyên sâu mạnh, năng lượng điển hình lớn. Chính vì vậy nên nguồn bức xạ γ thường dùng có năng lượng nhỏ để hạn chế sự ảnh hưởng ra ngoài (các sóng γ tác động lên hầu hết các vật chất trên đường đi của nó gây ra những biến đổi mạnh). Đó là nguyên nhân tại sao các nguyên tố phóng xạ tự nhiên như Uranium, Radium, Plotonium không được dùng trong các lĩnh vực khác ngoài các nhà máy hạt nhân. Chính vì các nguyên tố phóng xạ tự nhiên có năng lượng phát xạ quá mạnh không thể sử dụng vào mục đích dân dụng nên các đồng vị phóng xạ nhân tạo được sử dụng. Các đồng vị phóng xạ nhân tạo này là các nguyên tố có khối lượng nguyên tử trung bình ( từ 80 đến 130), các nguyên tố này trong tự nhiên có tồn tại đồng vị phóng xạ dạng vết. Để thu đồng vị phóng xạ, quặng của các nguyên tố này được đưa vào lò phản ứng hạt nhân. Chính vì cường độ bức xạ γ cao trong lò đã kích thích nguyên tử các đồng vị thường biến đổi thành đồng vị phóng xạ. Hiện tượng này gọi là bức xạ nhiễm xạ: tức là các chất bình thường (không bức xạ) sau một thời gian bị chiếu xạ thì biến đổi, có khả năng bức xạ lại môi trường. Đặc điểm của các đồng vị phóng xạ γ là có chu kỳ bán rã dài (thường tính bằng năm) nên có thể sử dụng lâu dài. Hai đồng vị phóng xạ thường dùng là 60Co (T = 5.27 năm) và 137Cs ( T = 30 năm). Cường độ bức xạ của hai chất trên là Co: 2.8 triệu Bq/g và Cs:3 triệu Bq/g. ( 1 Bq bằng một lượng tử bức xạ trong một giây). Năng lượng điển hình là Co: 1,173 MeV và Cs: 0.661 MeV. Phóng xạ γ thường dùng khi cần chiếu xạ vào sâu bên trong vật thể. Một bức xạ γ ở mức năng lượng bình thường có thể xuyên qua một tấm chì dày 5 cm hay một tấm nhôm dày 2 m. Nguồn phóng xạ β: Phóng xạ β là các tia electron. Phóng xạ β có thể tạo được từ nguồn đồng vị phóng xạ β hay máy gia tốc eletcron. Ở đây chỉ đề cập đến nguồn đồng vị phóng xạ β. Phóng xạ β không có tính xuyên sâu mạnh nên an toàn hơn phóng xạ γ. Các nguồn phóng xạ β thường gặp là 32P, 35S ,123I…. Phương trình biến đổi chung của đồng vị phóng xạ β Để có được các đồng vị phóng xạ này, người ta sẽ bắn phá hạt nhân bằng luồng electron từ máy gia tốc eletcron theo phương trình ngược lại. Đồng vị phóng xạ β thường có chu kỳ bán rã ngắn (thường từ vài ngày đến vài tháng). Chu kỳ bán rã của 32P là 15 ngày, của 35S là 87 ngày, của 123I là 60 ngày. Chính vì chu kỳ bán rã ngắn này nên các đồng vị phóng xạ β có thời gian sử dụng ngắn, phải thay mới thường xuyên. Phóng xạ β thường được sử dụng khi chỉ cần chiếu xạ bề mặt, không có khả năng xuyên sâu nên an toàn cho nguời vận hành. Tuy nhiên độ xuyên sâu thấp làm giảm khả năng xử lý các sản phẩm. Phóng xạ β thường được dùng để xử lý bề mặt hay sử dụng cho các sản phẩm có hình dạng mỏng, phẳng. Bề sâu chiếu có thể ước lượng bằng công thức Với d : bề sâu chiếu E: năng lượng ( E= hν (với bức xạ γ) = e.U (với bức xạ β)) ρ: khối lượng riêng vật liệu k: hệ số. Tóm lại nguồn đồng vị phóng xạ có các ưu điểm là đơn giản, không cần đến máy móc. Tuy nhiên có nhược điểm là nguy hiểm (phóng xạ γ) và thời gian sử dụng ngắn (phóng xạ β). Sự giảm dần của năng lượng bức xạ theo thời gian T1/2 Hình II.1 Đồ thị cường độ chiếu xạ theo thời gian Với E: năng lượng bức xạ t:: thời gian Nguồn bức xạ từ máy tạo bức xạ Máy gia tốc electron (electron accelerator) Máy gia tốc là các máy tạo ra một điện trường cực lớn. Máy thường có cấu tạo gồm hai bản cực. Cực âm là kim loại có khối lượng phân tử trung bình, có ái lực với electron thấp. Dưới tác dụng của điện thế rất cao giữa hai bản cực (10 – 100 KV), các electron này bật khỏi tấm kim loại và bay về phía bản cực dương. Trên đường đi của electron, người ta đặt các nam châm điện để định hướng lại quỹ đạo của electron bằng từ trường. Việc định hướng này làm các electron không đập vào bản cực dương mà bay vào các ống định hướng tia âm cực CRT (Cathode Ray Tube). Đầu ra của các ống CRT này là sản phẩm mà ta muốn chiếu xạ. Máy tạo tia Roentgen (Máy gia tốc electron bức xạ hãm) Máy tạo tia Roentgen (tia X) có cấu tạo gần giống máy gia tốc electron. Tuy nhiên cực dương của máy không phải là các ống CRT mà là tế bào quang điện. Tế bào quang điện là các mảnh kim loại có số khối lớn (gọi là bia biến đổi) như Pb, W, Ta, Au,…Luồng electron tốc độ cao mang năng lượng lớn sẽ bắn phá tế bào quang điện làm tế bào quang điện phát ra các sóng điện từ có bước sóng cực ngắn. Đó là tia Roetgen (hay tia X), các tia này có bước sóng từ 0.01 nm đến 1000 nm, tia Roentgen còn được gọi là bức xạ hãm. Tia Roentgen có độ xuyên sâu mạnh (chỉ thua tia γ). Máy tạo tia Roentgen có hiệu suất tạo bức xạ hãm thấp, chẳng hạn chì (Pb) có hiệu suất tạo bức xạ hãm là 8 %. Phần lớn năng lượng còn lại chuyển thành nhiệt lượng. Vì vậy mảnh kim loại rất nóng, phải dùng nước để tản nhiệt. Bức xạ hãm này có tính xuyên sâu mạnh có thể dùng cho các sản phẩm cần xử lý bằng tia γ. Nó có ưu điểm hơn đồng vị phóng xạ γ ở các mặt sau (lưu ý là ta không có máy để tạo phóng xạ γ). Có định hướng, khoảng 60% lượng bức xạ hãm này đến được vật cần chiếu xạ, trong khi bức xạ của đồng vị phóng xạ γ phát đều theo mọi hướng nên tỉ lượng bức xạ có ích rất thấp, nguồn 137Cs có hiệu suất 20 %. Liều ổn định và đồng đều (các đồng vị phóng xạ có liều bức xạ giảm dần theo thời gian). Đèn tử ngoại: đèn tử ngoại có cấu tạo giống đèn huỳnh quang dân dụng nhưng không có lớp huỳnh quang. Khí trơ sử dụng trong đèn thường là Xe, Kr. Ngoài ra đèn thường có lớp kính lọc để lọc bớt các tia bức xạ khác và làm giảm cường độ chiếu xạ. Đèn tử ngoại đơn giản, dễ sử dụng, an toàn nên được sử dụng rộng rãi hơn so với các loại máy tạo bức xạ khác. Đèn tử ngoại nếu có cùng công suất với các nguồn bức xạ khác thì khả năng diệt khuẩn thấp. Vì vậy đèn tử ngoại thường được dùng với công suất cao để kết hợp hai mục đích diệt khuẩn và gia nhiệt. Ưu điểm của phương pháp gia nhiệt bằng tử ngoại là khả năng làm giảm lượng chất hữu cơ bay hơi do nhiệt. Người ta ước tính gia nhiệt bằng tia tử ngoại có thể làm giảm lượng chất hữu cơ bay hơi khoảng 100 lần. Lò vi sóng: đây là các thiết bị gia nhiệt sử dụng vi sóng (microwave). Lò vi sóng hoạt động trên nguyên tắc truyền dao động điện từ thành dao động vật chất của sản phẩm. Lò vi sóng không có tác dụng diệt khuẩn nhưng cũng có khả năng tiêu diệt một số vi sinh vật có cấu tạo tế bào đơn giản, dễ vỡ. Ưu điểm của lò vi sóng là hạn chế lượng chất dinh dưỡng mất mát so với các phương pháp gia nhiệt khác. Một mô hình đang được nghiên cứu ứng dụng là mạch bức xạ. Mạch bức xạ là các ống dẫn bức xạ từ lò phản ứng hạt nhân đến các cơ sở xử lý xung quanh. Các ống dẫn này có chứa hợp kim của kim loại nóng chảy như In – Ga, hay In – Mn. Mạnh bức xạ tận dụng phần năng lượng dư thừa của nhà máy điện hạt nhân. Công suất của mạch bức xạ tương đối lớn (khoảng 5 % công suất của nhà máy điện hạt nhân đó) nên cần một năng suất nhập liệu rất lớn. (Một mạch bức xạ có thể xử lý với năng suất khoảng 100 lần so với một máy bức xạ bình thường). Ngoài ra những khó khăn trong khâu bảo đảm an toàn bức xạ, việc phải sử dụng kim loại nóng chảy đã cản trở việc đưa mô hình này vào thực tế. Hiện nay trên thế giới có một mô hình thử nghiệm đặt tại Lithunia có công suất 300 kW. Hy vọng trong thời gian tới các nhà khoa học có thể tìm ra các chất dẫn truyền hiệu quả, khả thi, cùng với việc thiết kế một quy trình đạt mức an toàn cao nhất. Hình II.2 Mô hình máy gia tốc electron [6] 1: cực âm, 2: cực dương, 3: nam châm điện, 4: ống cathode (CRT) Nhìn chung các máy tạo bức xạ có các ưu điểm là công suất lớn, liều chiếu lớn, hiệu suất cao và có định hướng. Tuy cần tiêu tốn năng lượng khi vận hành nhưng ta có thể kiểm soát được liều lượng, cường độ và hướng chiếu xạ. So sánh hiệu suất sử dụng năng lượng nguồn bức xạ Nguồn bức xạ Hiệu suất Máy gia tốc electron Nguồn bức xạ hãm Nguồn 60Co Nguồn 137Cs 66 50 25 20 II.2 Thiết bị điều chỉnh năng lượng bức xạ Thông thường nguồn bức xạ thường phát ra bức xạ vượt mức yêu cầu của quy trình, công nghệ, nên ta phải điều chỉnh năng lượng bức xạ. Đối với các máy bức xạ thì việc điều chỉnh dễ dàng thông qua bộ phận điều khiển trên máy. Còn đối với các đồng vị phóng xạ thì chúng ta phải sử dụng các chất hấp thụ bớt một phần năng lượng. các chất thường dùng là các kim loại nặng, nước, nước nặng (D2O). Thường dùng nhất là chì và nước. Một điều lưu ý quan trọng là vật liệu để chế tạo thiết bị chiếu xạ để bức xạ không bị lọt ra ngoài gây nguy hiểm cho người vận hành, đặc biệt là bức xạ dạng tia γ hay tia X do đặc tính xuyên sâu mạnh của nó. Với hai nguồn phóng xạ này thì vật liệu thích hợp là bê tông. Bề dày bình trung bình của bức tường này là từ 6 – 7 foot (khoảng 2 m). Ngoài ra với đồng vị phóng xạ cần có biện pháp bảo quản khi không vận hành. Thường các đồng vị phóng xạ tia γ được đặt dưới bể nước sâu để làm giảm mức nguy hiểm. 1, Nơi chứa đồng vị phóng xạ. 2, thiết bị điều khiển. 3, băng chuyền nhập liệu. 4, băng chuyền tháo sản sản phẩm. 5, nơi chứa nguyên liệu thô. 6, nơi chứa sản phẩm sau chiếu xạ, 7, tường bảo vệ bằng bê tông. Hình II.1 Mô hình một thiết bị sử dụng đồng vị phóng xạ (1) [3] Hình II.2 Mô hình thiết bị xử lý bằng bức xạ [6] 1, Nơi chứa đồng vị phóng xạ. 2, thiết bị điều khiển. 3, băng chuyền nhập liệu. 4, băng chuyền tháo sản sản phẩm. 5, nơi chứa nguyên liệu thô. 6, nơi chứa sản phẩm sau chiếu xạ, 7, tường bảo vệ bằng bê tông. Hình II.3 Mô hình một thiết bị sử dụng đồng vị phóng xạ (2) [6] Tia bức xạ Băng chuyền Thiết bị dùng máy gia tốc electron Hình II.4 Mô hình một thiết bị sử dụng máy gia tốc electron (2) [6] Các quy trình xử lý bằng bức xạ trong công nghệ chế biến thực phẩm (rau quả) [1] Mục đích của xử lý bằng bức xạ đối với thực phẩm chủ yếu để làm ngưng sự hoạt động sinh học của rau, củ, quả; cải thiện chất lượng, chống sâu bọ, khử trùng và tiệt trùng (tiêu diệt vi sinh vật), tăng thời gian bảo quản. Theo liều lượng người ta chia việc xử lý làm 3 loại Liều thấp (duới 1 kGy): sử dụng để hạn chế sự phát triển của rau, củ, làm chậm sự chín của trái và tiêu diệt côn trùng, ký sinh trùng như giun sán. Liều trung bình (từ 1 – 10 kGy): sử dụng để kéo dài thời gian bảo quản của thực phẩm, giảm sự lây nhiễm của vi sinh vật (vi sinh vật vẫn còn tồn tại), cải thiện một số tính chất công nghệ. Liều cao (từ 10 – 60 kGy): sử dụng để để tiệt trùng, tiêu diệt hầu hết vi sinh vật (bao gồm cả viruses), xử lý đồ hộp. Ngoài ra còn một cách phân biệt một số quá trình với các thuật ngữ sau (thuật ngữ này không có thuật ngữ tiếng Việt tương đương) Radurization: xử lý liều từ 2 – 6 kGy, trong đó hàm lượng vi khuẩn giảm một cách đáng kể, nhưng không bị diệt hoàn toàn. Quá trình này tăng thời gian bảo quản lên từ 3 -5 lần ở nhiệt độ từ 0 – 5 0C. Radicadation: xử lý với liều tương tự như Radurization nhưng chỉ nhằm tiêu diệt một số vi sinh vật gây bệnh chủ yếu. Radappertization: xử lý liều từ 30 – 50 kGy dùng để tiêu diệt hầu như hoàn toàn hệ vi sinh vật trong thực phẩm, nhằm mục đích bảo quản lâu dài. Phương pháp này sử dụng chủ yếu với thịt và các sản phẩm từ thịt, ít dùng cho bảo quản rau quả. Ứng dụng bức xạ trong môt số sản phẩm, quy trình [5] Quy trình Liều chiếu (kGy) Thực phẩm Quốc gia sử dụng Tiệt trùng Tiệt trùng thực phẩm đóng gói Tiệu diệt vi sinh vật gây bệnh chủ yếu Kéo dài thời gian bảo quản từ 5 ngày lên 1 tháng với sản phẩm lạnh Tiêu diệt côn trùng Ngăn ngừa nảy mầm 7–10 Trên 50 10–25 2.5–10 2–5 0.1–6 0.1–0.2 Thảo mộc, gia vị Thịt (bảo quản thời gian dài) Rượu (đóng chai) Gia vị, thịt đông lạnh, tôm đông lạnh Trái cây tươi (40C ) Trái cây, lúa, bột mì, hạt coca, thực phẩm khô Cà chua, tỏi, hành tây Bỉ, Canada, Croatia, CH Séc, Đan Mạch, Phần Lan, Israel, Hàn Quốc, Mexico, Nam Phi, USA, Việt Nam. Hungary Bỉ, Canada, Croatia, CH Séc, Đan Mạch, Phần Lan, Pháp, Iran, Hà Lan, Nam Phi, Thái Lan, Việt Nam Trung Quốc, Pháp, Hà Lan, Nam Phi, USA Argentina, Brazil, Chile, Trung Quốc. Algeria, Bangladesh, Trung Quốc, Cuba Một số quá trình ứng xử lý thực phẩm ứng dụng chiếu xạ và thời điểm bắt đầu (tại Hoa Kỳ) [5] Thời điễm Sản phẩm Liều chiếu ( kGy) Ứng dụng 1963 Lúa mì, bột mì 0.2 - 0.5 Loại bỏ côn trùng 1964 Cà chua 0.05 - 0.15 Ức chế chín 1983 Gia vị và rau quả khô 1 Loại bỏ côn trùng và khử độc 1986 Trái cây 1 Giảm hô hấp, ức chế chín và diệt côn trùng 1986 Rau tươi 1 Diệt côn trùng 1986 Thảo mộc, rau, gia vị. Tối đa 30 Tiêu diệt vi sinh vật 1997 Thực phẩm đóng hộp Tối thiểu 44 Tiệt trùng III.1 Tác động của tia bức xạ lên thực phẩm và ứng dụng trong bảo quản rau quả [3] Tiêu diệt vi sinh vật [3] Tia bức xạ, đặc biệt là tia Roentgen và tia γ có khả năng xuyên sâu mạnh. Bức xạ khi tương tác với vật chất thì gây ion hoá. Lợi dụng tính chất này, người ta xử dụng phương pháp chiếu xạ để biến đổi chất hữu cơ trong tế bào gây ức chế hoặc tiêu diệt quá trình sống. Đặc biệt đối với cơ thể đơn bào như vi sinh vật có thể bị bất hoạt hoặc chết ngay lập tức do sự thay đổi cấu trúc màng tế bào và tác động trực tiếp lên hệ enzyme. Tuy nhiên tác động quan trọng nhất của chiếu xạ là thay đổi cấu trúc DNA và RNA, ảnh hưởng lên quá trình tăng trưởng và phát triển của vi sinh vật. Sự tác động này bắt đầu có hiệu quả sau khi chiếu xạ một thời gian ngắn, khi tế bào không thể tổng hợp enzyme và phân chia. Tốc độ tiêu diệt tế bào phụ thuộc vào loại bức xạ, khả năng tác động và số lượng tế bào được chiếu xạ. Sự nhạy cảm với chiếu xạ của vi sinh vật được đánh giá bằng chỉ số D10 (liều lượng chiếu xạ cần để giảm lượng vi sinh xuống còn 10%). Số lượng vi sinh giảm theo hàm log khi tăng lượng phát xạ, ngoại trừ những vi sinh vật có khả năng tái tạo lại DNA sau khi bị chiếu xạ ( Hình III.1). Ở đây, tế bào vi sinh vật càng nhỏ thì lượng phát xạ phải càng lớn do chúng hấp thu ít năng lượng hơn các tế bào vi sinh vật lớn. Trong đó virus có khả năng chịu đựng rất tốt và hầu như không bị tiêu diệt bởi lượng chiếu xạ thường dùng trong sản xuất. Dạng vi sinh vật có bào tử (như Clostridium botulinum, Bacillus cereus ) và những loại vi sinh vật tái tạo lại DNA (như Deinococcus radiodurans ) có khả năng chống xạ tốt hơn những loại khác. Để tiêu diệt vi sinh vật trong rau quả ta cần sử dụng tia Roentgen hay tia γ có độ xuyên sâu cao, nhất là các sản phẩm có kích thước to. Các loại quả nhỏ hay rau có thể dùng tia β hay đèn tử ngoại là đủ hiệu quả. Nhìn chung tiệt trùng bằng chiếu xạ trong bảo quản thực phẩm thì tuỳ thuộc vào từng loại sản phẩm và loại vi sinh vật có trong đó. Đồ thị thể hiện hàm lượng vi sinh vật khi xử lý với các liều lượng khác nhau Hình III.1 Tỉ lệ vi sinh vật còn sống sót sau khi xử lý bức xạ trên rau quả A: Pseudomonas sp - B: Salmonella sp - C: Bacillus cereus - D: Deinococcus radiodurans – E: một số virus thông dụng. Kỹ thuật tiệt trùng này có thể được sử dụng được cho nhiều loại thực phẩm nhưng liều lượng tối đa cho phép dưới 10 kGy. Với liều chiếu 48 kGy ta có thể giảm Cl.botulinum xuống còn 12% nhưng với lượng cao như vậy thì sản phẩm rất dễ hư hỏng, đặc biệt là các sản phẩm rau quả. Nhìn chung trong xử lý rau quả liều lượng chiếu xạ phải dưới 20 kGy, thường dao động quanh 10 kGy, hàm lượng chiếu xạ cao hơn thích hợp với sản phẩm thịt, tôm, cá. Ngoài ra xử lý bức xạ luôn đi kèm với làm lạnh để giảm tác dụng phụ. Trong thương mại nếu sản phẩm chứa hàm lượng cao các chất nhạy cảm với nhiệt, các chất dễ bay hơi thì liều chiếu và thời gian chiếu phải được tính toán nhằm bảo đảm chất lượng cho sản phẩm. Với các sản phẩm trái cây có ít chất bay hơi thì nếu chiếu xạ liều lượng 8 - 10 kGy, ta có thể giảm được đáng kể lượng vi sinh vật nhưng không làm giảm lượng tinh dầu, thành phần chính trong các chất dễ bay hơi. Phương pháp này có ưu thế rất lớn trong việc thay thế chất bảo quản hoá học. Trong điều kiện hiện nay khi các chất bảo quản hóa học ngày càng bị hạn chế do độc tính được khám phá thì chiếu xạ có thể xem là phương pháp thay thế tối ưu. Tùy vào từng loại vi sinh vật và sản phẩm đem chiếu xạ mà ta sử dụng những liều lượng và nhiệt độ khác nhau. Để có các thông số này chúng ta có thể thí nghiệm hay tìm từ các nhà sản xuất. Với bức xạ liều lượng thấp ta có thể tiêu diệt được nấm men, nấm mốc, các loại vi khuẩn không bào tử. Phương pháp này thường được sử dụng để tăng thời gian sử dụng sản phẩm do ngăn chặn tế bào phát triển. Có một điểm đáng chú ý là vi khuẩn sau khi sử lý chiếu xạ rất nhạy với nhiệt. Ví dụ như để tiêu diệt Salmonella spp ta có thể dùng 2.5 kGy nhưng hiệu quả sẽ tăng gấp đôi nếu để ở 50C. Vì vậy, khi ta kết hợp hai phương pháp chiếu xạ và sử lý nhiệt thì hiệu quả tăng lên rõ rệt. Một số vi khuẩn gây độc có khả năng chống xạ kém như Samonella typhimurium có thể bị tiêu diệt với hàm lượng 3 - 5 kGy. Vấn đề gặp phải là tuy chúng ta tiêu diệt vi khuẩn gây độc, nhưng nếu xử lý sau khi chúng đã xâm nhập vào sản phẩm thì những chất độc do chúng tiết ra vẫn còn trong sản phẩm và gây ảnh hưởng đến người tiêu dùng. Điều khiển và ức chế quá trình chín [3] Một số dạng trái cây, rau quả như dâu tây, cà chua có thể được chiếu xạ để kéo dài thời gian sử dụng lên 2-3 lần khi giữ ở 100C. Nếu ta kết hợp chiếu xạ trong thiết bị hút chân không thì hiệu quả tăng cao, có thể giảm liều lượng mà vẫn đem lại kết quả tương tự. Tuy nhiên những sản phẩm này cần phải để đến giai đoạn gần chín trước khi chiếu xạ để ức chế quá trình chín một cách hiệu quả nhất. Lúc này các hoormon và enzyme kích thích sự chín đang được tạo ra. Quá trình chín là một chuỗi các phản ứng sinh hóa mà mỗi hormon và enzyme được tạo ra là kết quả cảm ứng của một hormon hay enzyme được tạo ra trước đó (giống như phản ứng dây chuyền). Vì vậy nếu ức chế quá trình này ngay từ đầu (ức chế chất khơi mào) thì có thể dập tắt được dây chuyền này. Một điểm cần lưu ý là emzymic spoilage (một trong các enzyme tham gia vào quá trình chín) của sản phẩm không hoàn toàn bị ức chế bởi chiếu xạ, cho nên cần phải bất hoạt enzyme này bằng phương pháp khác như xử lý nhiệt hay phân hủy bằng hóa chất. Diệt sâu bọ, ký sinh trùng [3] Các loại trái cây nhiệt đới thường bị nhiễm các loại sâu bọ, ấu trùng sâu bọ, giun sán làm giảm chất lượng xuất khẩu. So với các vi sinh vật thì các động vật có cơ thể đa bào như côn trùng và các ký sinh trùng dễ tiêu diệt hơn nhiều. Với lượng rất thấp khoảng 1 kGy là đủ để tiêu diệt các loại côn trùng này. Ưu thế của phương pháp này là có thể thay thế một số chất bảo quản hoá học đã bị cấm như ethylene dibromide do dư lượng còn lại trong sản phẩm hay chất methyl bromide do ảnh hưởng xấu đến tầng ozone. Loại bức xạ thường dùng là tia β hay đèn tử ngoại vì hầu hết côn trùng đều tập trung trên bề mặt rau quả. Ức chế sự nảy mầm [3] Một số sản phẩm có nguồn gốc là hột như lúa, hay là cơ quan sinh sản như củ khoai tây, củ hành có thể nảy mầm nếu gặp điều kiện thích hợp. Chiếu xạ có thể làm giảm hẳn khả năng nảy mầm ở các loại sản phẩm này. Người Nhật đã sử dung một lượng khoảng 150Gy để ức chế quá trình nảy mầm của củ khoai tây. Một lượng tương tự cũng được dùng để kìm hãm sự tạo chồI ở củ tỏi, củ hành. III.2 Quy trình chiếu xạ trong bảo quản rau quả [3] Sản phẩm rau quả tươi Sơ chế Đóng kiện Xử lý chiếu xạ Xử lý chiếu xạ kết hợp làm lạnh Sản phẩm sau xử lý Bảo quản - Sơ chế: bao gồm các quá trình rửa, cắt gọt. Mục đích của quá trình sơ chế là để rửa sạch các chất bẩn còn bám trên bề mặt rau quả, tạo hình cho sản phẩm - Đóng kiện: rau quả sau khi sơ chế được đóng kiện để thuận tiện cho việc nhập liệu, tháo liệu, xếp đặt trong buồng xử lý. Vật liệu chế tạo kiện tốt nhất là các kim loại nhẹ và bền như nhôm, các hợp kim nhôm, thép không rỉ. Ưu điểm của kiện làm bằng kim loại có thể sử dụng lâu dài. Nếu không có điều kiện thì có thể thay thế bằng giấy hay nhựa. Tuy nhiên sau một thời gian chiếu xạ phải thay thế mới. Nếu quy trình xử lý cho một hay một vài loại rau quả gần giống nhau thì có thể tạo hình cho kiện khớp với hình dáng của loại rau quả đó. Điều này giúp cho việc sắp xếp đơn giản, tránh c